EI、Scopus 收录
中文核心期刊
快速检索 年期检索 高级检索

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

泰氟龙烧蚀对黏性激波层电子密度的影响

唐锦荣,  彭世铳

downloadPDF
文章导航 > 力学学报  > 2002 >  34(6): 
唐锦荣, 彭世铳. 泰氟龙烧蚀对黏性激波层电子密度的影响[J]. 力学学报, 2002, 34(6). doi: 10.6052/0459-1879-2002-6-2001-268
引用本文: 唐锦荣, 彭世铳. 泰氟龙烧蚀对黏性激波层电子密度的影响[J]. 力学学报, 2002, 34(6). doi: 10.6052/0459-1879-2002-6-2001-268
shu

泰氟龙烧蚀对黏性激波层电子密度的影响

doi: 10.6052/0459-1879-2002-6-2001-268

  • 中科院力学所,100080

    摘要
  • 摘要: 采用黏性激波层基本方程组对有无泰氟龙烧蚀两种情况下的钝锥体化学非平衡绕流作了数值求解，以研究泰氟龙烧蚀对流场电子密度的影响规律. 算例结果表明：泰氟龙烧蚀确有降低流场电子密度的效应. 平衡催化壁工况下这种效应的强度，显著大于非催化壁工况下的强度；远下游截面处的这种效应的强度，显著大于驻点区的强度. 此外，通过计算结果分析，对形成上述影响规律的原因作了初步讨论.

     

    • HTML全文
    • 参考文献(0)
    • 相关文章
    • 施引文献
  • 资源附件(0)
  • 加载中
WeChat 点击查看大图
计量
  • 文章访问数:  940
  • HTML全文浏览量:  8
  • PDF下载量:  632
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 刊出日期:  2002-11-18

目录

    /

    返回文章
    返回

    下载中心

    作者中心

    版权所有 © 《力学学报》编辑部备案号：京ICP备05039218号-1

    通讯地址：北京市海淀区北四环西路15号邮政编码：100190

    联系电话：010-62536271

    邮箱：lxxb@cstam.org.cn

    RSS

    本系统由 北京仁和汇智信息技术有限公司 开发    百度统计