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泰氟龙烧蚀对黏性激波层电子密度的影响

唐锦荣,  彭世铳

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唐锦荣, 彭世铳. 泰氟龙烧蚀对黏性激波层电子密度的影响[J]. 力学学报, 2002, 34(6). doi: 10.6052/0459-1879-2002-6-2001-268
引用本文: 唐锦荣, 彭世铳. 泰氟龙烧蚀对黏性激波层电子密度的影响[J]. 力学学报, 2002, 34(6). doi: 10.6052/0459-1879-2002-6-2001-268
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泰氟龙烧蚀对黏性激波层电子密度的影响

doi: 10.6052/0459-1879-2002-6-2001-268

  • 中科院力学所,100080

    摘要
  • 摘要: 采用黏性激波层基本方程组对有无泰氟龙烧蚀两种情况下的钝锥体化学非平衡绕流作了数值求解，以研究泰氟龙烧蚀对流场电子密度的影响规律. 算例结果表明：泰氟龙烧蚀确有降低流场电子密度的效应. 平衡催化壁工况下这种效应的强度，显著大于非催化壁工况下的强度；远下游截面处的这种效应的强度，显著大于驻点区的强度. 此外，通过计算结果分析，对形成上述影响规律的原因作了初步讨论.

     

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  • 刊出日期:  2002-11-18

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